2007 International Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Symposium
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会 場 |
札幌コンベンションセンター 〒003-0006 TEL 011-817-1010 |
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日 時 |
2007年10月29日～31日 | ||||
主 催 |
技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA) 株式会社 半導体先端テクノロジーズ(Selete) |
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共 催 |
SEMATECH（米国） EUV CSC（欧州） |
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堀池 靖浩 EUVA Stefan Wurm, SEMATECH Robert Hartman, ASML
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